A principios de esta semana, Intel hablo sobre sus nuevos nodos con el proceso de 10nm, los cuales Intel afirma que es una «nueva generación» de la tecnología de 10nm actual, sobre Samsung, TSMC, Qualcomm y otros.
Entonces, ¿qué tiene de diferente la tecnología de 10nm de Intel en comparación con sus rivales? Bueno, para empezar, utiliza la tecnología FinFET de tercera generación, pero hay un poco más que eso. Uno de los enfoques clave para Intel en lo que respecta a los 10nm es el Hyper Scaling, que le permite a Intel «continuar con los beneficios de la ley de Moore mediante la integración de transistores mas pequeños y estos tienen un costo menor por transistor».
El nodo de 10nm de Intel, puede ofrecer una mejora de 2,7x en la densidad de transistores en comparación con los productos de 14nm. Esto se consigue debido a que el minimum gate pitch se reduce de 70nm a 54nm y el minimum metal pitch baja de 52nm a 36nm. Esto permite una densidad de transistores lógicos de 100,8 megas transistores por milímetro cuadrado, que se estima que es el doble de la competencia con chips a 10nm.
Aparte de eso, el salto de Intel de 14nm a 10nm traerá mejoras adicionales. Se dice que el último nodo ofrece un rendimiento de hasta un 25 por ciento de mejora con un 45 por ciento menos de potencia. Una próxima versión mejorada del proceso de 10nm conocido como 10 ++ aumentará este beneficio de rendimiento en un 15 por ciento adicional, mientras que reduce el consumo de energía en un 30 por ciento adicional.
Fuente: KITGuru