Intel da a conocer hoy los detalles de su nueva microarquitectura optimizada, con proceso de fabricación de 14 nm, esta tecnología proporcionará una mejora en el rendimiento y por supuesto mejorara el consumo de energía, servirá a una amplia gama de necesidades de computación y productos de infraestructura de computación en la nube y la Internet de las Cosas.
“El modelo integrado de Intel, la combinación de nuestra experiencia en el diseño con el mejor proceso de fabricación, hace posible la entrega de un mejor rendimiento a nuestros clientes y los consumidores”, dijo Rani Borkar, vicepresidente de Intel y gerente general de desarrollo de productos. “Esta nueva microarquitectura es más que un logro técnico, es una demostración de la importancia de nuestra filosofía de diseño de afuera hacia adentro que coincide con nuestro diseño a los requerimientos del cliente.”
“La tecnología de 14 nanómetros utiliza la segunda generación de transistores Tri-gate para ofrecer un producto líder en la industria de rendimiento, potencia, densidad y costo por transistor”, dijo Mark Bohr, Intel Senior Fellow, Tecnología y Manufactura, y director de, Arquitectura de Procesos de Integración. “Las inversiones de Intel y el compromiso con la ley de Moore está en el corazón de lo que nuestros equipos han sido capaces de lograr con este nuevo proceso.”